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    日本大冢電子SF-3晶圓膜厚儀的技術(shù)解析

    發(fā)布時(shí)間： 2025-07-14　　點(diǎn)擊次數(shù)： 13次
    　　日本大冢電子(Otsuka)生產(chǎn)的SF-3小型晶圓膜厚儀是一種專為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域設(shè)計(jì)的精密測量設(shè)備。該設(shè)備采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高精度的膜厚測量，具有非接觸式、非破壞性的特點(diǎn)，適用于硅晶圓、玻璃等基材的厚度測量。SF-3膜厚儀的測量范圍廣泛，從0.1 μm到1600 μm，能夠滿足不同厚度測量需求。其測量精度高，重復(fù)精度達(dá)到0.001%以下，測量時(shí)間僅需10毫秒，展現(xiàn)了測量效率和準(zhǔn)確性。
     
    　　SF-3膜厚儀的設(shè)計(jì)緊湊，體積小，安裝簡便，非常適合集成到生產(chǎn)線中。它能夠?qū)崿F(xiàn)長距離工作(Working Distance)，從3 mm到200 mm，使得在不同生產(chǎn)環(huán)境中的安裝和使用更加靈活。此外，該設(shè)備還支持多層厚度測量，即使在短暫貼合的情況下也能準(zhǔn)確測量各層厚度，這對(duì)于3D IC堆疊等先進(jìn)封裝技術(shù)尤為重要。
     
    　　SF-3膜厚儀還具備高速測量能力，最快可達(dá)5kHz，能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)控研磨厚度，這對(duì)于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量具有重要意義。設(shè)備通過LAN接口實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制，方便與Host系統(tǒng)連接，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)流程。
     
    　　總的來說，SF-3小型晶圓膜厚儀以其高精度、高效率和靈活性，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用，是實(shí)現(xiàn)精確膜厚控制的理想選擇。
     
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